Ehdotuksen tiedot

Physical vapor deposition coatings — Magnetron sputtering deposition of TiAlSiN thin films — Specification
Tunnus:ISO/DIS 25164
Julkaisija:ISO
Komitea:ISO/TC 107/SC 9
Komitean nimi:Physical vapor deposition coatings
Lausuntokierros alkanut:2025-10-26
Lausuntopyynnön määräaika:2025-12-26
Vastuuhenkilö:frans.nilsen(at)metsta.fi
Lue ehdotus
Ilmoita kollegalle
Ota kantaa
Ehdotuksen soveltamisala:
This document specifies the technical requirements for TiAlSiN thin films deposited by magnetron sputtering. This document is also applicable to the deposition of TiN, TiAlN, or TiSiN thin films.

Rekisteröidyttyäsi Lausuntopyyntöpalvelun käyttäjäksi voit lukea standardiehdotuksia ja kommentoida niiden sisältöä.

Kun haluat kommentoida lukemaasi tekstiä, valitse Lue ehdotus ja anna muutosehdotuksesi kohdassa Jätä kommentti.

Voit myös kertoa mielipiteesi standardiehdotuksesta kokonaisuutena. Ota kantaa siihen, hyväksytkö standardiehdotuksen vahvistamisen standardiksi.